多功能光催化反應儀CY-GHX-DC控溫冷卻裝置的詳細資料：

多功能光催化反應儀CY-GHX-DC控溫冷卻裝置?                                           

技術參數(shù)：

型號：CY-GHX-DC多功能控溫光化學反應儀

（一）主體部分

1.光源功率可連續(xù)調節(jié)大小。

2.集成式光源控制器，可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

3.汞燈功率調節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調節(jié)。

4.氙燈功率調節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調節(jié)。

5.金鹵燈功率調節(jié)范圍：0~500W可連續(xù)調節(jié)。

（二）小容量反應部分

1.石英試管規(guī)格：30ml、50ml（或定做）。

2.可同時處理8個樣品（或定做）。

3.八位磁力攪拌裝置可同步調節(jié)8個樣品的攪拌速度。

（三）大容量反應部分

1.玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。

2.大功率強力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

（四）控溫裝置

1.冷卻水循環(huán)裝置制冷量：＞1000W

2.控溫范圍：-5°C到100°C

3.冷卻水循環(huán)裝置設有腳輪和底部排液閥。

多功能光催化反應儀CY-GHX-DC控溫冷卻裝置?       

光化學儀器的維護及保養(yǎng)措施

一、必須重視儀器設備的管理和使用

　　儀器設備的高負荷使用，往往容易發(fā)生意外故障，特別是光學儀器若因維護和使用不當而起霧，就不能發(fā)揮儀器的正常作用，而帶來工作上的障礙。所以高效的維護管理儀器設備已成為當今企事業(yè)單位有效降低成本，提高勞動生產率的有效手段。目前國內企業(yè)設備維護管理一般還停留在被動的搶修作業(yè)模式，即當儀器設備發(fā)生故障，無法繼續(xù)使用時，維修人員才在短時間內將故障排除，而當沒有發(fā)生故障時，維修人員只是空閑，所以這樣的管理模式是談不上效率的，因此，儀器設備的管理也應做好計劃，同樣設備維護管理也需要把非計劃性的工作轉化為計劃性的工作。如果我們定期的檢查保養(yǎng)來減低故障的發(fā)生，特別是做好儀器的"三防"工作，避免搶修工作，保證儀器隨時能投入正常的作用，這就是一種主動的方式。

　　二、注意測繪儀器的防霧

　　測繪儀器在使用和貯放中，除了有生霉現(xiàn)象外，往往還有光學零件的起霧，影響儀器的正常使用，故可針對光學信器起霧的主要因素，采取防止措施。

　　A、設計使用中的防霧措施

　　A1、設計儀器時注意防霧，儀器結構應加強密封性能，保證儀器在高溫或低溫情況下不降低密封性能，以防止因漏氣而引起的水性霧，設計人員應當充分注意選擇化學穩(wěn)定性能好的光學玻璃和材料，為防霧打下良好的基礎。

　　A2、在制造和維修過程中注意整潔生產，裝配和維修的工房須清潔，并嚴格遵守操作規(guī)程，精心擦拭光學零件，嚴禁用手直接接觸和拿取光學零件，夾持光學零件的工具須進行脫脂處理，擦光學零件所用的輔件，如棉光、布塊、乙醇、yi醚、碘以及與光學零件接觸的有機墊片均須進行嚴格脫脂，控制含脂量，裝光學零件的器皿和盛乙醇、yi醚的瓶子，須經常清洗，保持清潔，這些都是減少油性霧的重要途徑。

　　A3、減少儀器內部的水蒸氣，防止水蒸氣在玻璃表面上凝結，盡可能在干燥的條件下進行裝配或對裝配好的儀器進行干燥處理，如充干燥氮氣或空氣以及放置干燥劑。儀器在使用和庫存中，盡量控制使用環(huán)境和庫房的相對濕度在6%左右，對于外業(yè)儀器在使用中不好控制濕度，用后應放在通風、向陽、干燥的地方，在儀器箱內放入干燥劑，并注意密封和及時更換烘干硅膠干燥劑，在潮濕環(huán)境下，使用的內業(yè)儀器，如糾正儀、復照儀等，對于可取下來的鏡頭和精密的光學部件，用后及時取下來故人干燥缸內加以保護，并經常保持儀器清潔，減少結霧核心。

　　A4、合理選擇和使用油脂，光學儀器上用的各種防塵脂、潤油油脂必須是揮發(fā)度極低和化學穩(wěn)定性好的材料，在光學儀器的金屬零件上涂油脂時，首先要把零件清洗干凈，讓汽油揮發(fā)完后再涂油脂，并且要涂均勻而不能過多，距光學件10-15mm的范圍內，禁止涂潤滑油脂和防塵脂，防止油脂擴散引起油性霧。

　　A5、提高光學玻璃表面的化學穩(wěn)定性，利用化學鍍膜或真空鍍膜方法，在玻璃表面鍍一層憎水膜，以提高玻璃的化學穩(wěn)定性，增強玻璃的抗腐蝕能力，減少起霧，為了減輕水性霧對觀察的影響，也可采用親水材料，鍍上一層透明的具有一定的物理性能偽親水膜，使水霧能全部散開，均勻的分散在膜層中，不影響觀察，當大氣干燥時，膜層中的水分自然地揮發(fā)到大氣中。

　　A6、除霉，除霧

　　光學儀器一旦生霉起霧，就造成了不良的影響，而且給修理工作帶來很多麻煩，因此，要以防為主，從儀器設計、制造開始就注意搞好防霉防霧，儀器庫存和使用中加強維護保養(yǎng)，是做好防霉防霧工作重要保證。而如果儀器已經生霉起霧，就應及時處理，以免造成更大損失。如果霜霧只在初期階段，即在儀器生霉起霧后，很短的時間內，只在玻璃表面層附蓋著而沒有侵蝕玻璃和破壞膜層的時候，可以用混合液擦掉。儀器生霧起霧后應及時處理，否則時間長了，就會腐蝕光學零件的表面和鍍膜，甚至于玻璃腐蝕，應及時用一般的混合液或用乙基含氫二氯硅烷溶液擦洗，這種溶液即防霧，又有一定的除霧除霉作用。多倍儀的綠色濾光片大部分是磷酸鹽玻璃，很易起霧，而且很難擦凈，可以用稀的氨水擯洗，而后用水洗凈，再及時用混合液把濾光片表面擦干，但這種玻璃很不穩(wěn)定，如果不用時，擦凈放在干燥皿內，或及時作霧處理，否則還會生霉起霧。對硅酸鹽玻璃盡量避免用堿性的物質去擦，因為堿對硅酸鹽類有腐蝕作用。如果當光學零件嚴重生霉起霧，并已腐蝕了玻璃，只有重新更換玻璃或重新把光學零件拋光?？傊鈱W儀器要以防為主，發(fā)現(xiàn)霉霧要及時除掉，除霉霧后，要及時采取防霧防霉措施，才能保護儀器使之發(fā)揮更大的作用。

　　B、光學儀器起霧的原因及其危害

　　霧是指光學零件的拋光面上，呈現(xiàn)出"露水"似的物質，這些物質有的是油質點子構成的，稱為油性霧，有的是由水珠或水與玻璃起化學反應形成堆積物構成的，稱為水性霧：有的光學零件上，兩種霧都有，叫做水油混合霧，一般的都以"露水"狀或干的堆積物存在于玻璃表面上。油性霧通常分布在元形光學零件的邊緣，并向中央伸延，有的則沿擦拭痕跡分布，油性霧的形成主要是油脂污染了玻璃表面，或是由于油脂的擴散，揮發(fā)在玻璃表面凝結而造成的，比如擦拭光學零件所用的輔料含脂量高，或者所用的工具帶有油脂，用手指直接拿取和觸及光學零件等，都會引起油性霧，或者是光學儀器上所用油脂的化學穩(wěn)定性不好，產生擴散或使用方法不當涂油過多，油脂擴散到光學零件上而引起油性霧，或者是由于儀表油脂揮發(fā)性很大，會產生油質蒸氣而形成油性霧，還有的是用汽油清洗金工零件時，沒有讓汽油充分發(fā)揮干凈，就涂油裝配。還有的用汽油稀釋放塵脂涂在鏡身內，隨著時間的增長和溫度的變化，這些汽油及所含的其它成份，逐漸揮發(fā)至光學零件上而形成油性霧。

　　水性霧是由于潮濕空氣在溫度變化下而形成，主要分布在零件的全面積上，產生原因主要是潮濕氣體所致，但與儀器密封性能、光學玻璃的化學穩(wěn)定性，以及玻璃表面的清潔程度有關，在較高的相對濕度下，霉菌易生長，有些霉菌生長狀大后，便在菌絲體周圍產生分泌物，這些分泌物有的是液狀的，在液狀分泌物外圍便形成水性霧。不管何種原因形成的霧，由于霧滴以曲率半徑極小的球形分布于光學零件表面上、使入射光線產生散射現(xiàn)象，除了降低儀器的有效透光率外，并使成象質量差影響觀測。有的光學零件因長期起霧，被腐蝕的玻璃表面形成很多微孔，嚴重的會使玻璃零件報廢。光學儀器起霧不僅在我國東南地區(qū)嚴重存在，就是較干燥的地區(qū)，由于溫差變化，也會起霧，它比光學儀器生霉的影響范圍更大，而且更難防止。

操作說明：

1、準備工作：連接電源。使用該儀器前首先把八位反應器（或磁力攪拌器）放入主機箱內，石英反應管（或反應容器）內放入磁子。之后檢查所需要使用的汞燈（氙燈）、反應器以及冷卻水循環(huán)裝置是否連接好。（如下圖連接）

2、反應暗箱內設有八位反應器（或磁力攪拌器）和燈的電源接口，請按指示連接。

3、配備進口高壓泵：配管尺寸較長，可平穩(wěn)的進行長距離循環(huán)、冷卻或恒溫機外實驗容器或建立第二恒溫場。

4、高密度耐腐蝕材料：可循環(huán)純水的循環(huán)泵、冷卻盤管、吐出口、回流口的關鍵接口都采用不銹鋼（SUS304）制造。

5、循環(huán)介質類型：硅油、水、鹽水、純酒精等實驗室常用循環(huán)介質。

反應暗箱：

主體箱是放置系列光化學反應儀光照裝置的地方，具有以下特征：

1、箱體內部為黑色，以降低光反射。

2、箱體后部有冷卻水進出口。

3、調節(jié)控制器上面的光光源功率旋鈕，使所使用光源功率處于zui大狀態(tài)，這樣利于燈管激亮。

4、依次打開控制器上面的風扇開關、反應器和燈開關，風扇開始工作（反應暗箱內空氣開始外排。

5、打開八位反應器（或磁力攪拌器）上面的電源開關，按需調節(jié)攪拌速度。

6、光源功率調節(jié)位于控制器中心位置，可按需調節(jié)光源功率大小。

7、控制器右上方設有微電腦定時器，可按需設置工作時間。

注：無論使用汞燈或氙燈做實驗時，必須將燈源放置在石英冷阱內使用（建議同時配套低溫冷卻循環(huán)裝置使用，避免溫度過高造成儀器損壞）。